PSA
PSA酸素ガス発生装置 O2-PSA
当社の酸素ガス発生装置は、合成ゼオライトに対する窒素と酸素の吸着力の差により、空気から酸素を濃縮分離します。酸素濃度は、90％から最高95％までの濃縮分離をおこない、1 系列で2,500㎥/h（nor.）（2 塔式）の設備まで制作可能です。
| 規格ほか | |
|---|---|
| 原理 | 合成ゼオライトの酸素・窒素の吸着量の差により酸素と窒素を分離するものです。 |
| 特長 | 1. 酸素ガスが安価で得られます。 2. 酸素純度は90％〜93％まで得られます。 〔例〕酸素濃度93％の場合の組成を下記に示します。 酸素 93％ 窒素+ アルゴン 7％ 水分 露点 − 60℃以下 at 1atm 3. ランニングコストが安価です。 真空再生法を利用しているので、他プロセスに比べ電力原 単位が最小です。 4. 起動後速やかに酸素ガスが得られます。 5. 装置はタッチパネルにより管理が容易です。 6. 装置はコンパクトに設置されております。 |
| 用途 |
1. 各種炉の酸素吹込用 製鋼用電気炉、銅・亜鉛・アルミなどの非鉄金属溶解、ガラス製造、各種キルン 2. 製紙工業用 酸素漂白・酸素原料オゾン漂白 3. 排水処理設備 酸素ばっ気・酸素原料オゾン発生 4. 化学工業用 各種酸化反応 5. 発酵工業用 6. 魚介類養殖用 7. その他酸素ガス供給用 |
| 仕様 | 能 力 ：max. 2,500㎥/h（nor.）（2 塔式）1系列当り O2 純度： 90 〜93％ 圧 力 ：0.97MPaG 水 分： 露点 −60℃ at 1atm |
ガスケミカル
⼯業原料、電⼦材料⽤途で硫⻩を中⼼とした有機材料（⼯業薬品）や⼯業、⾷品⽤途向けのガス製品（ケミカルガス）を⽣産しています。
工業薬品：チオフェノール、チオアニソール、スルフォラン、SFS、塩化チオニール、塩化スルフリル、アンモニア水
ケミカルガス：液化硫化水素、液化亜硫酸ガス、亜酸化窒素
