混合ガス(Mixed Gases)
CO+N2 CO mix
製品名 | 充填圧力 | 容器 | 容器弁 | 圧力調整器 | 国連番号 |
---|---|---|---|---|---|
CO 19 % + N2 81 % | 9.80MPa | 47L | B・W22・14・OL | YSL | 1956 |
CO 30 % + N2 70 % | 1954 |
CO2+O2
製品名 | 充填圧力 | 容器 | 容器弁 | 圧力調整器 | 国連番号 |
---|---|---|---|---|---|
CO2 5 % + O2 95 % | 11.76MPa | 3.4L・10L・40L・47L | B・W22・14・OR | YBR | 3156 |
H2+He FUEL Gas
製品名 | 充填圧力 | 容器 | 容器弁 | 圧力調整器 | 国連番号 |
---|---|---|---|---|---|
H2 40 % + He 60 % | 11.76MPa | 3.4L・10L・40L・47L | B・W22・14・OL | YBL | 1954 |
H2+N2 FUEL Gas
製品名 | 充填圧力 | 容器 | 容器弁 | 圧力調整器 | 国連番号 |
---|---|---|---|---|---|
H2 40 % + N2 60 % | 11.76MPa | 10L・40L・47L | B・W22・14・OL | YBL | 1954 |
N2+He 比表面分析用
製品名 | 充填圧力 | 容器 | 容器弁 | 圧力調整器 | 国連番号 |
---|---|---|---|---|---|
N2 30 % + He 70 % | 11.76MPa | 10L・40L・47L | B・W22・14・OR | YBR | 1956 |
CH4+Ar PR Gas
製品名 | 充填圧力 | 容器 | 容器弁 | 圧力調整器 | 国連番号 |
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( PR GAS ) CH410 % + Ar 90 % | 11.76MPa | 10L・40L・47L | B・W22・14・OR | YBR | 1954 |
CO2+H2+N2 嫌気培養用
製品名 | 充填圧力 | 容器 | 容器弁 | 圧力調整器 | 国連番号 |
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CO2 5 % + H2 5 % + N2 90 % | 11.76MPa | 47L | B・W22・14・OL | YBL | 1956 |
CO2 10 % + H2 10 % + N2 80 % | 10L・40L・47L | 1954 |
CO2+O2+N2 医療機器用
製品名 | 充填圧力 | 容器 | 容器弁 | 圧力調整器 | 国連番号 |
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CO2 5 % + O2 5 % + N2 90 % | 11.76MPa | 3.4L・10L・47L | B・W22・14・OR | YBR | 1956 |
CO2 6 % + O2 5 % + N2 89 % | 47L |
CO2+N2+He レーザーガス
製品名 | 充填圧力 | 容器 | 容器弁 | 圧力調整器 | 国連番号 |
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CO2 1.7 % + N2 23.4 % + He 74.9 % | 14.70MPa | 47L | B・W22・14・OR | YBR | 1956 |
CO2 3.4 % + N2 15.6 % + He 81 % | 11.76MPa・14.70MPa | ||||
CO2 4.1 % + N2 29 % + He 66.9 % | 14.70MPa | ||||
CO2 4.5 % + N2 13.5 % + He 82 % | 11.76MPa・14.70MPa | ||||
CO2 4.7 % + N2 30.6 % + He 64.7 % | 14.70MPa | ||||
CO2 5 % + N2 24.2 % + He 70.8 % | 14.70MPa | ||||
CO2 5 % + N2 29 % + He 66 % | 11.76MPa・14.70MPa | ||||
CO2 5 % + N2 34 % + He 61 % | 11.76MPa・14.70MPa | ||||
CO2 5 % + N2 55 % + He 40 % | 11.76MPa 14.70MPa |
||||
CO2 5 % + N2 55 % + He 40 % | |||||
CO2 7 % + N2 33 % + He 60 % | 11.76MPa・14.70MPa |
CO+CO2+N2+He レーザーガス
製品名 | 充填圧力 | 容器 | 容器弁 | 圧力調整器 | 国連番号 |
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CO 1 % + CO2 2 % + N2 26 % + He 71 % | 9.80MPa | 47L | B・W22・14・OR | YBR | 1956 |
CO 2 % + CO2 8 % + N2 8 % + He 82 % | 40L・47L | ||||
CO 4 % + CO2 8 % + N2 60 % + He 28 % | 10L・47L | ||||
CO 6 % + CO2 12 % + N2 60 % + He 22% | 47L |
ガスケミカル
⼯業原料、電⼦材料⽤途で硫⻩を中⼼とした有機材料(⼯業薬品)や⼯業、⾷品⽤途向けのガス製品(ケミカルガス)を⽣産しています。
工業薬品:チオフェノール、チオアニソール、スルフォラン、SFS、塩化チオニール、塩化スルフリル、アンモニア水
ケミカルガス:液化硫化水素、液化亜硫酸ガス、亜酸化窒素