半導体用ガス
NH3 アンモニア 国連番号 1005 CAS No.7664-41-7
| グレード | OPT | RESEARCH | SEG |
|---|---|---|---|
| 純度 | >99.99997 % | >99.9995 % | >99.999 % |
| 容器・充填量 |
10L - 5kg ( 7.4m3 ) 47L - 25kg ( 37.1m3 ) 930L - 500kg ( 741.9m3 ) 1860L - 1000kg ( 1483.8m3 ) |
||
| 容器弁 | S・W22・14・OL | ||
N2O 亜酸化窒素 国連番号 1070 CAS No. 10024-97-2
| グレード | RESEARCH | SEG |
|---|---|---|
| 純度 | >99.9995 % | >99.999 % |
| 容器・充填量 |
10L - 7.5kg ( 4.3m3 ) 47L - 30kg ( 17.2m3 ) 440L - 300kg ( 172.2m3 ) 360L×2本 - 500kg ( 287.1m3 ) |
|
| 容器弁 | S(B)・W22・14・OR | |
CO 一酸化炭素 国連番号 1016 CAS No. 630-08-0
| グレード | SEG |
|---|---|
| 純度 | >99.995 % |
| 容器・充填量 |
10L - 9.80MPa ( 1.0m3 ) 47L - 9.80MPa ( 4.7m3 ) 47L×28本 - 9.80MPa ( 130.3m3 ) |
| 容器弁 | S・W22・14・OL |
NO 一酸化窒素 国連番号 1660 CAS No. 10102-43-9
| グレード | EG |
|---|---|
| 純度 | >99.8 % |
| 容器・充填量 |
10L - 3.43MPa ( 0.4m3 ) 47L - 3.43MPa ( 1.7m3 ) 47L×10本 - 3.43MPa ( 16.6m3 ) |
| 容器弁 | S・W22・14・OR |
B2H6 ジボラン 国連番号 1911 CAS No. 19287-45-7
| グレード | EG |
|---|---|
| 純度 | >99.999 % |
混合製品
| グレード | EG |
|---|---|
| バランスガス | H2 , He , N2 , Ar (EG) |
| B2H6 |
H2 : 10 ppm ~ 20 % He , N2, Ar : 1 ~ 10 % |
| 容器・充填量 |
10L , 47L : 9.80MPa ( B2H6 : ~ 1 % ) 7.35MPa ( B2H6 : ~ 5 % ) 4.90MPa ( B2H6 : ~ 10 % ) 2.94MPa ( B2H6 : ~ 20 % ) |
| 容器弁 | S・W22・14・OL |
HCl 塩化水素 国連番号 1050 CAS No. 7647-01-0
| グレード | SEG | EG |
|---|---|---|
| 純度 | >99.999 % | >99.995 % |
| 容器・充填量 |
47L - 25kg ( 17.2m3 ) |
10L - 6kg ( 4.1m3 ) 47L - 25kg ( 17.2m3 ) |
| 容器弁 | S・W26・14・OR | |
SiH2Cl2 ジクロロシラン 国連番号 2189 CAS No. 4109-96-0
| グレード | EG |
|---|---|
| 純度 | >99.9 % |
| 容器・充填量 |
10.1L - 9kg ( 2.3m3 ) 41L - 37kg ( 9.3m3 ) |
| 容器弁 | S・W22・14・OL |
CH4 メタン 国連番号 1971 CAS No. 74-82-8
| グレード | SEG | EG |
|---|---|---|
| 純度 | >99.99 % | >99.9 % |
| 容器・充填量 |
10L - 9.80MPa ( 1.0m3 ) 47L - 9.80MPa ( 4.7m3 ) |
|
| 容器弁 | B・W22・14・OL | |
C3H6 プロピレン 国連番号 1077 CAS No. 115-07-1
| グレード | SEG |
|---|---|
| 純度 | >99.99 % |
| 容器・充填量 | 47L - 20kg ( 12.0m3 ) |
| 容器弁 | S・W22・14・OL |
C2H4 エチレン 国連番号 1962 CAS No. 74-85-1
| グレード | EG |
|---|---|
| 純度 | >99.999 % |
| 容器・充填量 | 47L - 5kg ( 4.5m3 ) |
| 容器弁 | S・W22・14・OL |
C3H8 プロパン 国連番号 1978 CAS No. 74-98-6
| グレード | EG |
|---|---|
| 純度 | >99.999 % |
| 容器・充填量 |
10L - 4kg ( 2.3m3 ) 47L - 10 , 15kg ( 5.7 , 8.6m3 ) |
| 容器弁 | S・W22・14・OL |
混合製品
| グレード | EG |
|---|---|
| バランスガス | H2 (EG) |
| C3H8 | 10 % , 30 % |
| N2 | < 1 ppm |
| 容器・充填量 |
10 , 47L : 4.80MPa ( C3H8 : 10 % ) : 1.60MPa ( C3H8 : 30 % ) |
| 容器弁 | S・W22・14・OL |
H2S 硫化水素 国連番号 1053 CAS No. 7783-06-4
| グレード | EG |
|---|---|
| 純度 | >99.99 % |
| 容器・充填量 |
10L - 7kg ( 5.2m3 ) 47L - 30kg ( 22.2m3 ) |
| 容器弁 | S・W22・14・OL |
SO2 二酸化硫黄 国連番号 1079 CAS No. 7446-09-5
| グレード | EG |
|---|---|
| 純度 | >99.99 % |
| 容器・充填量 | 10L - 10kg ( 3.9m3 ) |
| 容器弁 | B・W22・14・OR |
BCl3 三塩化ホウ素 国連番号 1741 CAS No. 10294-34-5
| グレード | EG |
|---|---|
| 純度 | >99.999 % |
| 容器・充填量 |
10L - 10kg ( 2.2m3 ) 40L - 40kg ( 8.6m3 ) 47L - 50kg ( 10.8m3 ) |
| 容器弁 | S・W26・14・OR |
CF4 四フッ化炭素 国連番号 1982 CAS No. 75-73-0
| グレード | EG |
|---|---|
| 純度 | >99.99 % |
| 容器・充填量 |
10L - 2kg ( 0.6m3 ) 47L - 30kg ( 8.6m3 ) |
| 容器弁 | B・W22・14・OL |
CO2 二酸化炭素 国連番号 1013 CAS No. 124-38-9
| グレード | EG |
|---|---|
| 純度 | >99.995 % |
| 容器・充填量 |
10L - 7.5kg ( 4.3m3 ) 40L - 30kg ( 17.2m3 ) |
| 容器弁 | B・W22・14・OR |
N2 窒素 国連番号 1066 CAS No. 7727-37-9
| グレード | EG |
|---|---|
| 純度 | >99.9999 % |
| 容器・充填量 |
10L - 11.76MPa ( 1.2m3 ) 47L - 14.70MPa ( 7.0m3 ) |
| 容器弁 | B・W22・14・OR |
O2 酸素 国連番号 1072 CAS No. 7782-44-7
| グレード | EG |
|---|---|
| 純度 | >99.999 % |
| 容器・充填量 |
10L - 11.76MPa ( 1.2m3 ) 47L - 14.70MPa ( 7.0m3 ) |
| 容器弁 | B・W22・14・OR |
Ar アルゴン 国連番号 1006 CAS No. 7440-37-1
| グレード | EG |
|---|---|
| 純度 | >99.9999 % |
| 容器・充填量 |
10L - 11.76MPa ( 1.2m3 ) 47L - 14.70MPa ( 7.0m3 ) |
| 容器弁 | B・W22・14・OR |
He ヘリウム 国連番号 1046 CAS No. 7440-59-7
| グレード | EG |
|---|---|
| 純度 | >99.9999 % |
| 容器・充填量 |
10L - 11.76MPa ( 1.2m3 ) 47L - 14.70MPa ( 7.0m3 ) |
| 容器弁 | B・W22・14・OR |
H2 水素 国連番号 1049 CAS No.1333-74-0
| グレード | EG |
|---|---|
| 純度 | >99.9999 % |
| 容器・充填量 |
10L - 11.76MPa ( 1.2m3 ) 47L - 14.70MPa ( 7.0m3 ) |
| 容器弁 | B・W22・14・OL |
ガスケミカル
⼯業原料、電⼦材料⽤途で硫⻩を中⼼とした有機材料(⼯業薬品)や⼯業、⾷品⽤途向けのガス製品(ケミカルガス)を⽣産しています。
工業薬品:チオフェノール、チオアニソール、スルフォラン、SFS、塩化チオニール、塩化スルフリル、アンモニア水
ケミカルガス:液化硫化水素、液化亜硫酸ガス、亜酸化窒素